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公司宗旨:

公司将本着“一切为了用户”的原则为广大客户提供最完善的服务

     

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 
  YL-DN-21碱性蚀刻盐  
 
 

YL-DN-21蚀刻盐属于铜一氨体系,具有高速蚀刻、高溶铜量、小的侧腐蚀的特性,极高的稳定性,可配合自动添加系统使用。YL-DN-21蚀刻盐适用于多种类型的阻挡层上,如金、镍、锡、铅锡合金,及印刷油墨、液体成像阻挡层,或干膜成像阻挡层等。
一般蚀刻液的基本概念:
周期性地手工添加蚀刻补充液,使蚀刻液的铜含量下降及补充在生产中高温下所失去的氨含量。但这种添加方法不能得到一个均匀的蚀刻速度,也不能保持生产板有一个高质量的水平。
如果将蚀刻液中的铜、氨及酸碱度,均保持在一个较窄的范围内工作,这样可以得到平均蚀速及所需的高品质。
使用自动添加系统可以解决以上问题,保持工作液在一个狭窄的范围内有稳定的药液成份。
YL-DN-21是根据以下的氧化还原反应进行的:

喷压 Cu+Cu+2 → 2Cu+
喷压 Cu+ → 2Cu+2 O2
1、主要特性:
溶铜量高 170g/Lt
蚀刻速度高 70um/min
侧蚀因子小 3-4(与设备有关)
PH值范围广 7.8-9.0
沉浮性: 优良
2、设备条件:
结 构:工程塑胶、塑胶钢
加热器:石英加热器、钛加热器
冷却管:钛冷却管、塑胶冷却管
抽 风:建议使用风量100-500CFM抽风机,并于管路加装
调整风量的挡板
电 器:所有电控装置均应密封避免腐蚀

3、YL-DN-21蚀刻液的组成操作条件:

工艺条件 控制条件

温 度 45-55℃ 48-52℃
PH 7.8-9.0 8.0-8.8
Cu2+ 135-185g/Lt 150-170g/Lt
Cl- 150-190g/Lt 160-180g/Lt
比 重 1.170-1.125 1.185-1.20
4、蚀刻补充液的配制:
4.1、蚀刻补充液组成:
YL-DN-21蚀刻盐 300g/Lt
氨水(28%) 370ml/Lt
水(温度60℃) 410ml/Lt
4.2、配制程序:将预先加热到60℃的所需份量的水注入溶器内,加入计算量的YL-DN-21蚀刻盐,并搅拌1小时,这时温度降至约20℃,再加入所需份量的氨水,混合搅拌至所有蚀刻盐完全溶解。溶器须密闭,尽量不让氨水在配制过程中溢出。过滤溶液,取样并分析蚀刻补充液的特性如下:
1) PH: 9.8-10.3(20℃)
2) 比 重: 1.015-1.035(20℃)
3) CL-: 4.5-5.3M
4) 总碱度: 4.8-5.3M
5) 外 观: 澄清
4、蚀刻补充液的配制:
4.1、蚀刻补充液组成:
YL-DN-21蚀刻盐 300g/Lt
氨水(28%) 370ml/Lt
水(温度60℃) 410ml/Lt
4.2、配制程序:将预先加热到60℃的所需份量的水注入溶器内,加入计算量的YL-DN-21蚀刻盐,并搅拌1小时,这时温度降至约20℃,再加入所需份量的氨水,混合搅拌至所有蚀刻盐完全溶解。溶器须密闭,尽量不让氨水在配制过程中溢出。过滤溶液,取样并分析蚀刻补充液的特性如下:
PH: 9.8-10.3(20℃)
比 重: 1.015-1.035(20℃)
CL-: 4.5-5.3M
总碱度: 4.8-5.3M
外 观: 澄清